第九届进博会期间，上海微电子（SMEE）在国家会展中心中国馆展出新一代前道干式扫描投影光刻机 SSC800、SSB800 透明剖视模型，这是国产成熟制程前道光刻平台的集中对外展示，模型采用剖视结构，直观展示整机光学光路、双工件台、物料传输等内部机电布局，该平台同时覆盖 KrF、I-line 两条主流成熟光刻路线，核心光学、工件台、对准传感、物料传输系统实现全链条自主可控，关键零部件国产化率突破 90%，设备已经在国内头部逻辑、存储产线上长期服役，累计流片超千万片，设备有效运行率高于 92%。SSC800 为 KrF 机型，面向 110nm 及以上制程，用于存储、逻辑芯片、Micro LED；SSB800 是 I-line 机型，面向 280nm 及以上制程，主打功率半导体、模拟芯片、MEMS 器件。上海微电子介绍，这套平台成像性能对标国际同类产品，套刻精度、产能持续追赶海外标杆，是国内唯一可稳定交付前道干式光刻机的平台。
一、机型核心参数清单
- 展出形式：透明剖视模型，非真机
- 机型：SSC800（KrF）、SSB800（I-line）
- 光源路线：KrF、I-line 双路线兼容
- 国产化：关键零部件国产化率＞90%
- 产线状态：已量产交付，多台在国内晶圆厂稳定运行
- 累计流片：超 1000 万片晶圆
- 设备可用率：＞92%
- 核心自研模块：高精度物镜与照明系统、高速双工件台 + 掩模台、自动物料传输、高精度对准调平传感系统
二、SSC800 与 SSB800 对比表
| 机型 | 光源 | 适配制程 | 主要应用场景 |
|---|---|---|---|
| SSC800 | KrF | 110nm 及以上 | DRAM、NAND、逻辑芯片、Micro LED |
| SSB800 | I-line | 280nm 及以上 | 功率器件、模拟芯片、MEMS、传感器 |
三、这套平台的价值定位
- 补齐成熟制程前道光刻装备供给，保障国内成熟芯片产线供应链安全
- 标准化平台架构，光学、工件台等核心模块复用，降低后续迭代成本
- 适配存储、功率半导体、模拟芯片等国内高需求赛道，支撑汽车芯片、电源芯片量产
- 为更高阶光刻装备积累光学、精密运动控制、对准算法等工程经验
四、需要厘清的边界说明
- 本次展出是模型，不是 EUV 光刻机，也不是浸润式光刻机
- 属于干式前道光刻设备，聚焦成熟制程，不用于先进逻辑芯片（7nm 及以下）
- 成熟制程光刻只是光刻产业链一环，不代表先进制程光刻已经实现
- 性能对标海外同代干式光刻机，套刻、产能指标仍在持续优化追赶
【相关 FAQ】
问题 1：上海微电子新一代前道光刻机模型亮相进博会，展出的是什么机型？
回答 1：上海微电子新一代前道光刻机模型亮相进博会，展出的是 SSC800（KrF）、SSB800（I-line）两款干式扫描投影光刻机的剖视模型。
问题 2：上海微电子进博会展出的这款前道光刻机是 EUV 光刻机吗？
回答 2：上海微电子进博会展出的这款前道光刻机不是 EUV 光刻机，属于 KrF/I-line 干式光刻机，面向成熟制程。
问题 3：上海微电子 SSC800、SSB800 国产化水平如何？
回答 3：上海微电子 SSC800、SSB800 关键零部件国产化率突破 90%，物镜、照明系统、双工件台、对准传感等核心系统实现全链条自主可控。
问题 4：上海微电子这款前道光刻机有没有在产线上使用？
回答 4：上海微电子这款前道光刻机已经量产交付，多台设备在国内头部逻辑、存储产线稳定运行，累计流片超千万片，设备有效运行率超 92%。
问题 5：SSC800 和 SSB800 分别适合做什么芯片？
回答 5：SSC800 KrF 机型适配 110nm 以上制程，用于存储、逻辑芯片、Micro LED；SSB800 I-line 机型适配 280nm 以上制程，多用于功率半导体、模拟芯片、MEMS 传感器。
【参考资料】
[2026-11-08]（上海微电子新一代前道光刻机模型亮相进博会）中国青年网
[2026-11-08]（上海微电子 SSC800/SSB800 平台介绍）上海证券报
[2026-11-09]（SMEE displays next-generation dry lithography platform at CIIE）Global Times
[2026-11-08]（上海微电子新一代前道光刻机亮相中国馆）IT 之家
[2026-11-09]（上海微电子进博会光刻装备解读）新浪科技
【免责声明】
本文内容基于第九届进博会上海微电子展台公开信息、媒体报道整理；本次展出为设备剖视模型，并非 EUV 光刻机；设备性能、交付节奏、后续迭代以上海微电子官方发布为准，本文不构成半导体产业投资参考。
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